Productos CIVEN

Os materiais metálicos de alta calidade e consistentes fan que os seus produtos sexan máis competitivos

RTF reverse treated double-side treated copper foil product illustration

Folla tratada ao revés · Folla de cobre tratada por ambas caras

Folla de cobre tratada polos dous lados con tratamento inverso RTF

Folla de cobre tratada por ambos os dous lados, co lado brillante da folla electrodeposada tamén rugoso. Ambos os lados ofrecen unha boa resistencia de unión, eliminando o paso do óxido negro para as capas interiores multicapa. Unha das opcións máis habituais para laminados de cobre revestido de alta frecuencia e alta velocidade.

· Características do produto

  • Rz 4-6 μm de rugosidade superficial
  • Tratamento rugoso de dobre cara
  • Sen óxido negro, proceso optimizado
  • Df ≤ 0,015 Grao de perda medio
Póñase en contacto connosco >>

Folla de ruta da evolución da rugosidade

Evolución da rugosidade superficial

Enfermidade de transmisión sexual
Folla estándar
Rz 7-8 μm
HTE
Eliminación do alta tempo
Rz 7-8 μm
RTF
Tratado inverso
Rz 4-6μm
LP
Perfil baixado
Rz 3-4μm
VLP
Perfil moi baixo
Rz ≤2μm
HVLP
Hiper perfil moi baixo
Rz ≤1.5 μm

Introdución do produto

Introdución do produto

RTF aplíca varias graos de rotación ao lado de tambor (a lado brillante) do foil electrodepositado convencional, o que normalmente é suave, de xeito que os dous lados teñen unha boa forza. De aí o nome de "reverso": o tratamento de aspereza que normalmente se aplica só a un lado "invértese" ao outro lado.

O nivel de tratamento en cada lado está deseñado con coidado: o lado que mira ao dieléctrico é máis rugoso (para unha adhesión máis forte), mentres que a capa rugosa do outro lado é máis fina (o que preserva unha boa capacidade de gravado). Este tratamento asimétrico de dobre cara cumpre dúas necesidades aparentemente incompatibles á vez: unha forte unión ao substrato illante e un gravado sinxelo durante a posterior transferencia do patrón.

Cando se utiliza como lámina interna en placas multicapa, o maior valor práctico do RTF é eliminar o pretratamento convencional con óxido negro. A cara interior brillante da lámina STD ordinaria debe someterse a un tratamento de óxido negro antes da laminación para garantir a adherencia, mentres que o RTF xa ten esta fase realizada, acurtando directamente o proceso e reducindo os custos de fabricación. Esta é a razón principal pola que o RTF se converteu no material principal para placas de circuíto impreso de velocidade media e alta (1-10 Gbps).

Características clave do proceso

  • A rotación dobre ladosTanto o lado do tambor como o lado mate están rugosos en diferentes graos, proporcionando resistencia de unión a ambos os dous lados.
  • Trato asimétrico: O lado de unión é máis rugoso (adhesión forte), o lado exposto é máis delgado (gravado fácil)
  • Non hai paso de óxido negro: Non se precisa ningún tratamento de oxidación adicional para as capas internas; laminar directo
  • Rango de frecuencia: Circuítos dixitais de velocidade media a alta de 1-10 Gbps

Estrutura de tratamento de dobre cara RTF

Lado de bút: ruhundo (ligados a dieétlectric)Lado mate: lixeiramente rugoso (lado de gravado exposto)
Estrutura de dobre cara RTF
Ambos os lados tratados, non é necesario óxido negro adicional
Shiny side: smooth (requires black oxide ❌)Lado de asunto: rughend (tardas ло)
Estrutura de STD de único lados
O lado brillante necesita óxido negro extra, engadindo unha fase do proceso

Especificacións

Especificacións e parámetros dispoñibles

Combinacións múltiples de espesor e rugosidade para adaptarse a diferentes configuracións de capas e orzamentos.

Modelo Espesor nominal Peso de areal Rz Forza de pical Programas típicos
RTF-18E-S 18 μm ~ 161 g/m² 5-6 μm ≥ 1,0 kg/cm Capas internas da placa base do smartphone (as máis comúns)
RTF-18E-M 18 μm ~ 161 g/m² 4-5 μm ≥ 0,95 kg/cm Capas internas do taboleiro dixital de medio velocidade, perda algo máis mina
RTF-35E-S 35 μm ~305 g/m² 5-6 μm ≥ 1,1 kg/cm Capas internas da placa base do servidor, equipos de rede
RTF-35E-M 35 μm ~305 g/m² 4-5 μm ≥ 1,05 kg/cm Capas interiores con requisitos de maior velocidade
RTF-70E 70 μm ~610 g/m² 5-6 μm ≥ 1,1 kg/cm Capas interiores de planos de alimentación con cobre pesado

Formato de subministración

  • Rolos: anchura de ata 1295 mm
  • Láminas: ata 1295 × 1295 mm
  • Dúas opcións de rugosidade: S / M

Valor central

  • Elimina o pretratamento de óxido negro (oxidación) da capa interior
  • Acorta o ciclo de produción de placas multicapa entre un 10 e un 15 %
  • Reduce o custo global de fabricación

Aplicativos

Usar programas de fina

Dedicado a todos os sectores clave da fabricación de produtos electrónicos.

Servidores e almacenamento

Capas interiores da placa base dun servidor de bastidor, placas controladoras de conxuntos de almacenamento

Comunicacións de rede

Gigabit / 10-gigabit switch inner layers, router backplanes, firewall mainboards

HDI Multilayer Boards

Smartphone mainboards (8–12 layers), tablet mainboard inner layers

Electrónica automotriz

In-vehicle infotainment systems, ADAS domain controller inner layers

5G Devices

5G phone / module mainboard inner layers, CPE devices

Electrónica de consumo

High-performance laptop mainboards, game console mainboards

Core Advantages

Core Product Advantages

Building differentiated competitiveness.

1

Simplified Process

No black-oxide pre-treatment for inner layers; laminate directly and shorten production cycles

2

Balanced Bonding on Both Sides

Double-side roughening ensures sufficient adhesion whichever side faces the dielectric

3

Outstanding Cost-Effectiveness

20–40% cheaper than LP/VLP, meeting high-volume 1–10 Gbps demand

4

Good Etchability

The thin roughened layer on the exposed side makes clean fine lines easier to achieve than with STD

5

Mature Supply Chain

Ample global capacity, stable lead times and smaller price fluctuations than high-end series

6

Flexible Options

Two roughness levels (S/M) at the same thickness, selectable to match your actual loss budget

Obter mostrados de Fíl de Coper RTF

O noso equipo ténico pode recomendar o grao optimal e o substrado coincidente para a súa aplicación específico.