Productos CIVEN

Os materiais metálicos de alta calidade e consistentes fan que os seus produtos sexan máis competitivos

HVLP hyper very low profile electrodeposited copper foil product illustration

Folla de cobre hiper de perfil moi baixo

Folla de cobre electrodeposada HVLP de perfil moi baixo

A superficie máis suave entre os foils commercial de cobre de hoxe, con Rz tan baixo a 1-1.5 μm. Deseñado para mmWave superior de 28 GHz e interconectos de alta velocidade en clustros de adestramento de AI, é un material fundamental para a era de computación.

· Características do produto

  • Rz ≤ 1,5 μm a rugosidade máis baixa
  • Df < 0,003 Perda ultra baixa
  • Sinais ultraaltos de ≥ 56 Gbps
  • HVLP- 1 ~ 5
Póñase en contacto connosco >>

Folla de ruta da evolución da rugosidade

Evolución da rugosidade superficial

Enfermidade de transmisión sexual
Folla estándar
Rz 7-8 μm
HTE
Eliminación do alta tempo
Rz 7-8 μm
RTF
Tratado inverso
Rz 4-6μm
LP
Perfil baixado
Rz 3-4μm
VLP
Perfil moi baixo
Rz ≤2μm
HVLP
Hiper perfil moi baixo
Rz ≤1.5 μm

Introdución do produto

Introdución do produto

A folla de cobre HVLP (Hyper Very Low Profile) representa o nivel máis alto da fabricación comercial de follas de cobre na actualidade. Construéndo en VLP (Profilífico moi baixa, Rz ≤ 2 μm), empurra a superficial cara ao límite físico, Baixen Rz a 1-1.5 μm ou mesmo menos (algas graos HVLP-5 acadan Rz ≤ 1.0 μm).

Por que unha superficie tan extremadamente lisa? A resposta é o efecto pel. A altas frecuencias (especialmente > 10 GHz), a corrente alterna non flúe uniformemente por toda a sección transversal do condutor, senón que se concentra nunha capa moi fina chamada "profundidade de pele" na superficie; canto máis alta é a frecuencia, máis superficial é a profundidade de pele. A 28 GHz mmWave, por exemplo, a profundidade de penetración do cobre é de só uns 0,4 μm. Se os picos e vales da superficie (Rz) da lámina son moito máis grandes que a profundidade de penetración, a corrente debe “arrastrarse” ao longo dunha superficie tortuosa, alongando enormemente o percorrido efectivo, aumentando bruscamente a resistencia e atenuando gravemente o sinal.

HVLP consegue unha superficie case atómicamente plana mediante parámetros de electrodeposición estreitamente controlados (concentración ultra baixa de aditivos, densidade de corrente altamente uniforme e xestión precisa do campo térmico). Como resultado, a súa perda de inserción a 28 GHz e superiores é un 60-70 % inferior á lámina STD. A medida que os clústeres de adestramento de IA avanzan cara a velocidades SerDes de 56 Gbps / 112 Gbps e se acelera a comercialización de mmWave 5G-A / 6G, o HVLP converteuse nun material estratéxico insubstituíble.

Características clave do proceso

  • Rz: 1.0 - 1.5 μm (HVLP- 5 chega ≤ 1.0 μm)
  • SubgrausCinco graos: HVLP-1 / HVLP-2 / HVLP-3 / HVLP-4 / HVLP-5
  • Df típico: < 0. 003 (Grao baixa de perda de Ultra)
  • Perda de inserción a 10 GHz: ≤ 0,35 dB/pulgada, aproximadamente un 60 % inferior ao estándar
  • Rango de frecuencia: ≥ 28GHz mmWave/56-112 Gbps SerDes de alta velocidade

HVLP comparación durada finala

STD Rz 7-8μm
Foil estándar STD
Perda elevada a alta frecuencia
HVLP Rz ≤1,5μm★
HVLP hiper moi baixo perfil
Case que é atomicamente liso

Especificacións

Especificacións e parámetros dispoñibles

Five sub-grades covering the full high-speed spectrum from 25 Gbps to mmWave.

Modelo Espesor nominal Peso de areal Rz Forza de pical Programas típicos
HVLP-1 12–35 μm On request ≤ 1.5 μm ≥ 0,8 kg/cm Entry-level high-speed boards (25–28 Gbps)
HVLP- 2 12–35 μm On request ≤ 1,4 μm ≥ 0,85 kg/cm Plazos de alta velocidade (28-56 Gbps)
HVLP-3 12–35 μm On request ≤ 1,3 μm ≥ 0,9 kg/cm Placas base para servidores de IA (SerDes de 56 Gbps)
HVLP- 4 12–35 μm On request ≤ 1, 2 μm ≥ 0,9 kg/cm Clustros de adestramento de AI, 112 Gbps interconectosName
HVLP- 5 12-18 μm On request ≤ 1, 0 μm ≥ 0,85 kg/cm mmWave (≥ 28 GHz), investigación de vangarda en 6G

Formato de subministración

  • Rolos: anchura de ata 1295 mm
  • Láminas: ata 1295 × 1295 mm
  • HVLP-4/5 by advance order, lead time 4–6 weeks

Substrados compatíbeis

  • PTFE (Ultra Low Loss grade)
  • Hydrocarbon resin (Df < 0.003)
  • Modified PPE/PPO, LCP liquid crystal polymer

Aplicativos

Usar programas de fina

Dedicado a todos os sectores clave da fabricación de produtos electrónicos.

AI Servers & Computing Clusters

GPU accelerator cards, TPU/NPU training boards, 56–112 Gbps SerDes high-speed interconnects

5G-A / 6G mmWave

28/39/77 GHz mmWave antenna modules, phased array radar transceiver units

Satellite Communications & Radar

Satellite-borne phased arrays, satellite internet ground stations, military electronic warfare systems

Ultra-High-Speed Switches

400GE / 800GE switch backplanes, co-packaged optics (CPO) substrates

Advanced Packaging

Redistribution layers (RDL) in 2.5D/3D IC packaging, conductive layers on glass substrates

Automotive mmWave

77 GHz mmWave radar PCBs, LiDAR control boards

Vantaxes principal

Vantaxes do produto principal

Construír unha competitividade diferenciada.

1

Industry's Lowest Roughness

Rz ≤ 1.5 μm (HVLP-5 reaches ≤ 1.0 μm), approaching the physical limit

2

Ultra-Low Signal Loss

Df < 0.003, with insertion loss 60%+ lower than STD

3

Supports 112 Gbps+

Meets the demanding requirements of next-generation AI computing and 6G mmWave

4

Five-Grade Selection

HVLP-1 to HVLP-5 precisely matched to different frequencies and cost budgets

5

Compatible with Top Substrates

Validated on ultra-low-loss substrates including PTFE, hydrocarbon resin and LCP

6

Strategically Scarce Resource

Global capacity is limited, and leading manufacturers have secured long-term supply

Get HVLP Copper Foil Samples & Technical Data

O noso equipo ténico pode recomendar o grao optimal e o substrado coincidente para a súa aplicación específico.