Prodotti CIVEN

I materiali metallici di alta qualità e coerenti rendono i tuoi prodotti più competitivi

HVLP hyper very low profile electrodeposited copper foil product illustration

Lamina di rame iper molto basso profilo

HVLP iper lamina di rame elettrodepositata di profilo molto basso

La superficie più liscia tra le odierne lamine di rame commerciali, con Rz fino a 1-1, 5 μm. Progettato per mmWave sopra i 28 GHz e interconnessioni ad altissima velocità nei cluster di addestramento AI, è un materiale fondamentale per l'era del calcolo.

· Caratteristiche del prodotto

  • Rz ≤ 1,5 μm rugosità più bassa
  • Df < 0.003 Ultra Loss
  • ≥ 56 Gbps segnali ultra-alti
  • HVLP-1 ~ 5 sotto-gradi
Contattaci>>

Roadmap di evoluzione rugosità

Evoluzione della rugosità superficiale

STD
Lamina standard
Rz 7-8μm
HTE
Allungamento ad alta temperatura
Rz 7-8μm
RTF
Trattato inverso
Rz 4-6μm
LP
Basso profilo
Rz 3-4μm
VLP
Profilo molto basso
Rz ≤ 2μm
HVLP
Iper profilo molto basso
Rz ≤ 1.5μm

Introduzione del prodotto

Introduzione del prodotto

Il foglio di rame HVLP (Hyper Very Low Profile) rappresenta il livello più elevato attuale nella produzione commerciale di fogli di rame. Basandosi su VLP (Very Low Profile, Rz ≤ 2 μm), spinge ulteriormente la rugosità superficiale verso il limite fisico, portando Rz a 1-1, 5 μm o anche inferiore (alcuni gradi HVLP-5 raggiungono Rz ≤ 1,0 μm).

Perché una superficie così estremamente liscia? La risposta è l'effetto pelle. Alle alte frequenze (soprattutto> 10 GHz), la corrente CA non scorre uniformemente attraverso la sezione trasversale del conduttore ma si concentra in uno strato di "profondità della pelle" molto sottile sulla superficie; maggiore è la frequenza, minore è la profondità della pelle. A 28 GHz mmWave, ad esempio, la profondità della pelle del rame è solo di circa 0,4 μm. Se i picchi e le valli superficiali (Rz) della lamina sono molto più grandi della profondità cutanea, la corrente deve "strisciare" lungo una superficie tortuosa, allungando notevolmente il percorso effettivo, aumentando nettamente la resistenza e attenuando gravemente il segnale.

HVLP raggiunge una superficie quasi atomicamente piana attraverso parametri di elettrodeposizione strettamente controllati (concentrazione additiva ultra bassa, densità di corrente altamente uniforme e gestione precisa del campo termico). Di conseguenza, la sua perdita di inserzione a 28 GHz e oltre è inferiore del 60-70% rispetto alla lamina STD. Man mano che i cluster di formazione AI passano alle velocità SerDes di 56 Gbps / 112 Gbps e la commercializzazione 5G-A / 6G mmWave accelera, HVLP è diventato un materiale strategico insostituibile.

Caratteristiche chiave del processo

  • Rugosità superficiale Rz: 1, 0-1, 5 μm (HVLP-5 raggiunge ≤ 1,0 μm)
  • SottorotazioniCinque gradi: HVLP-1 / HVLP-2 / HVLP-3 / HVLP-4 / HVLP-5
  • Df tipico: <0,003 (grado ultra basso di perdita)
  • Perdita di inserimento a 10 GHz: ≤ 0,35 dB/in, circa il 60% inferiore a STD
  • Intervallo di frequenza: ≥ 28GHz mmWave/56-112 Gbps ad alta velocità SerDes

Confronto finale della rugosità HVLP

STD Rz 7-8μm
Foglio standard STD
Alta perdita ad alta frequenza
HVLP Rz ≤ 1.5μm★
HVLP iper profilo molto basso
Quasi atomicamente liscio

Specifiche

Specifiche & parametri disponibili

Cinque sotto-gradi che coprono l'intero spettro ad alta velocità da 25 Gbps a mmWave.

Modello Spessore nominale Peso reale Rugosità superficiale Rz Resistenza allo sbucciamento Applicazioni tipiche
HVLP-1 12-35 μm Su richiesta ≤ 1,5 μm ≥ 0,8 kg/cm Tavole ad alta velocità entry-level (25-28 Gbps)
HVLP-2 12-35 μm Su richiesta ≤ 1.4 μm ≥ 0,85 kg/cm Backplane ad alta velocità (28-56 Gbps)
HVLP-3 12-35 μm Su richiesta ≤ 1.3 μm ≥ 0.9 kg/cm Scheda madre server AI (SerDes 56 Gbps)
HVLP-4 12-35 μm Su richiesta ≤ 1,2 μm ≥ 0.9 kg/cm Cluster di formazione AI, interconnessioni a 112 Gbps
HVLP-5 12-18 μm Su richiesta ≤ 1,0 μm ≥ 0,85 kg/cm MmWave (≥ 28 GHz), ricerca all'avanguardia 6G

Formato di fornitura

  • Rotoli: larghezza fino a 1295 mm
  • Fogli: fino a 1295 × 1295 mm
  • HVLP-4/5 per ordine anticipato, lead time 4-6 settimane

Substrati compatibili

  • PTFE (grado ultra basso di perdita)
  • Resina idrocarburica (Df <0,003)
  • PPE/PPO modificato, polyper a cristalli liquidi LCP

Applicazioni

Applicazioni per l'uso finale

Servire ogni settore chiave della produzione di elettronica.

Server AI e cluster informatici

Schede acceleratore GPU, schede di formazione TPU/NPU, interconnessioni SerDes ad alta velocità 56-112 Gbps

5G-A / 6G mmWave

28/39/77 GHz mmWave moduli antenna, phased array radar ricetrasmettitore unità

Comunicazioni satellitari e radar

Phased array via satellite, stazioni terrestri Internet satellitari, sistemi di guerra elettronica militare

Interruttori ad altissima velocità

Backplane interruttore 400GE/800GE, substrati di ottica co-confezionata (CPO)

Imballaggio avanzato

Strati di ridistribuzione (RDL) in imballaggi IC 2.5D/3D, strati conduttivi su substrati di vetro

MmWave automobilistico

77 GHz mmWave PCB radar, schede di controllo LiDAR

Vantaggi principali

Vantaggi principali del prodotto

Costruire una competitività differenziata.

1

La rugosità più bassa del settore

Rz ≤ 1,5 μm (HVLP-5 raggiunge ≤ 1,0 μm), avvicinandosi al limite fisico

2

Perdita di segnale ultra bassa

Df <0,003, con perdita di inserzione 60% + inferiore a STD

3

Supporta 112 Gbps

Soddisfa i requisiti esigenti del calcolo AI di nuova generazione e 6G mmWave

4

Selezione di cinque gradi

HVLP-1 HVLP-5 abbinare con precisione a diverse frequenze e budget di costo

5

Compatibile con i substrati superiori

Convalidato su substrati a bassissime perdite tra cui PTFE, resina idrocarburica e LCP

6

Risorsa strategicamente scarsa

La capacità globale è limitata e i principali produttori si sono assicurati una fornitura a lungo termine

Ottieni campioni di lamina di rame HVLP e dati tecnici

Il nostro team tecnico può consigliare il grado di spessore ottimale e il substrato di corrispondenza per la vostra applicazione specifica.