CIVEN製品

高品質で一貫性のある金属材料により、製品の競争力が高まります

High-performance electrodeposited copper foil, a complete solution from standard to hyper-very-low profile, product illustration

電気蒸着銅箔ファミリー・全製品範囲

高性能電気蒸着銅箔: 標準から超非常に低プロファイルまでの完全な範囲

HTE、RTF、LP、VLP、HVLP、BCFをカバーする6つのシリーズで、厚さは3.5〜420μmで、従来のPCBからAIサーバー、5G mmWaveまでのあらゆるニーズに対応しています。すべてのグレードはIPC-4562認定を受けており、高周波、高速回路の信頼性の高い材料基盤を提供します。

・製品の特徴

  • 6シリーズ、完全な制品ライン
  • Rz ≤ 1 μm最低粗さ
  • 3.5-420 μ mの厚さの範囲
  • IPC-4562国際認証
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粗さ進化ロードマップ

表面粗さの進化

HTE
高温伸び
Rz 7-8μm
RTF
逆処理
Rz 4〜6μm
LP
目立たない
Rz 3-4μm
VLP
非常に低いプロファイル
Rz ≤ 2μm
HVLP
ハイパー非常に低プロファイル
Rz ≤ 1.5μm

制品シリーズ

詳細の6つの銅箔シリーズ

各グレードには明確な役割があります。コストに敏感な家電製品から、要求の厳しい高周波高速アプリケーションまで、常にニーズに合ったものがあります。

HTE
高温伸び銅箔 (HD箔とも呼ばれます)
ベストセラー

高温 (180 °C) で優れた伸びを保持する特殊な銅箔: その高温伸びは、室温値の少なくとも30% です。多層PCBラミネーションは高熱を発生し、通常の銅箔は再結晶化する傾向があり、内層回路に「銅の亀裂」を引き起こします。HTEは、特殊な合金組成と熱処理プロセスを通じてこの問題を解決します。これは、中国で最大の市場シェアを持つハイエンドの銅箔カテゴリーの1つであり、多層ボードや高Tgラミネートで広く使用されています。

表面粗さRz7-8 μ m
180 ℃ での伸び室温の価値の ≥ 30%
共通の厚さ12 / 18/35/70μm
コアの強み高い引張強度、強いアンダーカット抵抗、高温での脆化なし
典型的なアプリケーション多層PCB、高Tg FR-4ボード、自動車用電子制御ボード
RTF
逆処理箔・両面処理銅箔
高速主流

電着箔の光沢面も粗くなり、両面に良好な接合強度が与えられます。2つの側面は異なる程度で処理されます。誘電体に面する側は接着性を高めるために粗く、もう一方の側はエッチングを容易にするために薄くなります。多層ボードの内層ホイルとして使用すると、ラミネーション前の黒酸化物処理が不要になり、生産効率が向上します。これは、高周波、高速銅クラッドラミネート、パフォーマンスとコストのバランスの主流の選択肢の1つです。

表面粗さRz4-6 μ m
扱われる二重側面はい: ドラム側と光沢のある側の両方が粗くされています
典型的なDf0.010-0.015(中程度の損失)
主な利点内層の黒い酸化物のステップ、両側のバランスの取れた結合、STDよりも優れたエッチング性を排除
典型的なアプリケーション多層内層、スマートフォンのメインボード、サーバーバックプレーン、中速デジタル回路
LP
控えめな銅箔
エントリーレベルの高速

最初に表面粗さを3〜4μmレベルに下げた移行製品。その微細な結晶構造 (<2μm) は、従来の柱状結晶ではなく、同一粒子で構成され、層状結晶化と平らな隆起があります。STDやRTFと比較して、信号伝送損失は大幅に低く、高速回路へのコスト効率の高いエントリになっています。エッチング後に銅粉末が残留物を移動せず、表面および絶縁抵抗が向上します。

表面粗さRz3-4 μ m
穀物の形態細かな等量の穀物、非カラム
典型的なDf0.0065 - 0.01 (低損失)
キーのプロパティ銅粉末転送なし、良好な熱安定性、優れたインピーダンス制御
典型的なアプリケーション高速デジタルPCBs (≤ 10 Gbps) 、産業用制御装置、ネットワーク通信装置
VLP
非常に控えめな銅箔
高周波Mainstay

精密電着によって生成された表面粗さ ≤ 2μmの超滑らかな銅箔。両側は非常に低い粗さに達し、細かい同一粒構造は等方性を保証します。表皮効果によって引き起こされる導体損失を大幅に低減し、Dfは ≤ 0.002に最適化され、PTFEや炭化水素樹脂などの低損失基板と良好に結合します。これは、5G通信やAIサーバーなどの高周波、高速アプリケーションの主力材料です。

表面粗さRz≤ 2.0 μ m
厚さの範囲12-105μm (420μmまでの超厚い等級)
典型的なDf≤ 0.003 (超低い損失への非常に低い損失)
皮の強さ≥ 0.8 – 1.0 kg/cm
典型的なアプリケーション5Gベースステーション/アンテナ、AIサーバーメインボード、HDIボード、自動車用レーダーPCB
HVLP
ハイパー非常に控えめな銅箔
最先端のフラッグシップ

今日の市販の銅箔の中で最も滑らかな表面であり、Rzは1〜1.5μm以下と低くなっています。VLPに基づいて、粗さの物理的限界に近づき、28 GHzを超えるmmWaveおよびAIトレーニングクラスターの超高速相互接続用に設計されています。単一のハイエンドAIサーバーは、従来のサーバーの最大10倍のHVLPを使用できます。グローバルコンピューティングインフラストラクチャが拡大するにつれて、供給は引き続きタイトです。

表面粗さRz1.0~1.5 μm(一部のグレードでは1.0 μm以下)
サブグレードHVLP-1 / HVLP-2 / HVLP-3 / HVLP-4 / HVLP-5
典型的なDf<0.003 (超低損失)
挿入損失 @ 10 GHz≤ 0.35 dB/in
典型的なアプリケーションAIトレーニング/推論サーバー、mmWaveレーダー (28 GHz以上) 、高速スイッチバックプレーン、衛星通信
BCF
リチウム電池用バッテリー銅箔・現在のコレクター箔
新エネルギーMainstay

リチウムイオン電池アノード集電装置およびリチウム電池のコアベース材料の1つに特化した電解銅箔。PCB銅箔とは異なり、BCFは二重光沢 (両側が明るい) の表面仕上げを備えており、優れた化学的および電気化学的安定性を提供しながら、バッテリー巻き取りプロセスに十分な柔らかさを備えています。より薄いホイルは、より高いエネルギー密度への重要な道です。厚さを12μmから6μm、さらには4〜5μmに減らすと、バッテリーの重量が直接約5〜9% 削減され、内部抵抗が低下し、充電放電効率が向上します。

表面仕上げ両面にダブル光沢があり、粗面はありません
共通の厚さ6 μ m / 8 μ m (主流)/10 μ m; 開発中の4-5 μ m
引張強さ≥ 30 kg/mmの ²
伸長≥ 5%
純度要件≥ 99.7%(電子級)
コアの強み柔らかく、風になりやすい、酸化/耐食性、アノード材料への強い接着
典型的なアプリケーションEVパワーバッテリー、消費者用リチウムバッテリー、エネルギー貯蔵システム (ESS)

セレクションガイド

正しい銅箔の選び方

信号率、損失予算、アプリケーションに基づいて最良のソリューションをすばやく特定します。

ホイルのタイプ Rz粗さ Dfロスグレード 信号レート 典型的なアプリケーション 相対コスト
HTE 7-8 μ m 標準
0.015–0.020
≤ 1 Gbps 多層ボード、高Tgボード、自動車用エレクトロニクス ★★☆☆☆
RTF 4-6 μ m ミッドロス
0.010–0.015
1-10 Gbps 電話のメインボード、サーバーの内部レイヤー、中速デジタル ★★☆☆☆
LP 3-4 μ m 低損失
0.0065–0.01
10-25 Gbps 高速産業用制御、ネットワーク機器、ルーター ★★★☆☆
VLP ≤ 2 μ m 非常に低い損失
0.003–0.0065
25-56 Gbps 5Gベースステーション、AIサーバー、HDIボード、自动车レーダー ★★★★☆
HVLP 1-1.5 μ m 超低損失
< 0.003
≥ 56 Gbps/ミリ波 AIトレーニングクラスター、mmWave、衛星通信 ★★★★★最も高い
BCF ダブル光沢
滑らかで、ざらつきがない
該当なし
集電部品
— 電気自動車用動力バッテリー、民生用リチウムイオン電池、エネルギー貯蔵システム ★★★★☆

📐供給形式

  • ロール: 1295mmまでの幅
  • シート:最大1295×1295mm
  • カスタム厚さおよび特殊幅に対応可能です。

✓ 品質認証

  • IATF 16949自動車品質管理システム
  • ISO 9001品质管理システム认证
  • 電気めっき銅箔に関するIPC-4562国際規格に準拠
  • GB/T 5230-2020国家標準に準拠

アプリケーション

最終用途アプリケーション概要

家電製品から最先端のコンピューティングインフラに至るまで、当社の幅広い銅箔製品ラインナップは、電子機器製造のあらゆる主要分野を網羅しています。

5G通信インフラ

基地局アンテナ、RFフロントエンド、ミリ波モジュール。VLP/HVLPをPTFE基板と組み合わせることで、挿入損失を最小限に抑えることができます。

AIサーバーおよびデータセンター

GPUアクセラレーターカード、高性能マザーボード、高速スイッチバックプレーン。HVLP-4/5は、現在のAIコンピューティングハードウェアを支える基幹材料です。

HDI高密度相互接続

スマートフォン、タブレット、ウェアラブル機器向けの任意層配線基板。UTF RCCは、L/S ≤ 20/20 μmまでの微細線形成を可能にします。

自動車用電子機器

電気自動車の電力制御、ADAS用ミリ波レーダー、車載ネットワークおよび充電管理。HTE/VLPは、車載グレードの信頼性要件を満たしています。

ネットワーク通信機器

高速スイッチ、ルーター、光通信モジュール、試験・計測機器。RTF/VLPは、中高速デジタル回路において主流の選択肢です。

フレキシブル回路(FPC)

折りたたみ式スクリーン、フレキシブルディスプレイモジュール、ウェアラブル相互接続。PI基板上に形成された超薄膜のVLP/HVLPグレードは、極めて薄く、屈曲可能な設計を可能にします。

ICパッケージング & 基板

半導体パッケージ基板、基板型PCB(SLP)、FC-BGA基板。超薄膜5~9μmのUTFは、先進的なパッケージングにおける微細配線をサポートします。

防衛 & 航空宇宙

高出力高周波回路基板、フェーズドアレイレーダー、衛星通信端末。極厚仕様のVLP-HTEグレード(3~12オンス)は、過酷な運転条件下でも耐久性を発揮します。

コアな優位性

当社の銅箔を選ぶ理由

6つの次元にわたる差別化された競争力。

1

完全な粗さ範囲

STDの7~8 μmからHVLPの1.5 μm以下まで、9つのシリーズがシームレスな製品マトリクスを形成し、あらゆる信号レートに最適な選択肢を提供します。

2

業界トップクラスの高周波損失

VLP/HVLPのDf値は0.002を下回り、挿入損失はSTD比で50%以上低減しています。測定データは国際的なトップブランドと比較して優位性を示しています。

3

広い厚さのカバレッジ

超薄型の3.5μmから極厚の420μmまで、ロール幅は最大1295mmに対応。HDI基板から高出力基板、PCBからリチウム電池に至るまで、当社一社でお客様のあらゆる調達ニーズにお応えします。

4

広い基板の互換性

PTFE、炭化水素樹脂、改質エポキシ、BT樹脂、CE積層板:当社の銅箔はすべて、主流の基板システムにおいて接合強度が確認されています。

5

安定した大量納品

IATF 16949およびISO 9001の両規格認証を取得した生産ラインは、月間生産能力に余裕があり、長年にわたり大手CCLメーカーおよびPCB企業へ大量供給を行っています。

6

カスタマイズされた技術サービス

当社の技術サポートチームは、ラミネートの組成、層構造、目標周波数に基づいて最適な銅箔グレードをご提案し、信頼性評価の完了を支援いたします。

サンプルと技術データを入手する

全製品ラインナップの無料サンプルをご用意しており、弊社の技術チームが個別に選定アドバイスを提供いたします。